中国芯片设备新突破！国产离子注入机实现28nm工艺制程全覆盖

6月30日讯，据国资委官微，中国电科 旗下电科装备已实现国产离子注入机28纳米工艺制程全覆盖，有力保障我国集成电路制造行业在成熟制程领域的产业安全。

据悉，离子注入机是芯片制造中的关键装备，当前，28纳米是芯片应用领域中覆盖面最广的成熟制程。

新华社介绍，在芯片制造过程中，需要掺入不同种类的元素按预定方式改变材料的电性能，这些元素以带电离子的形式被加速至预定能量并注入至特定半导体材料中，离子注入机就是执行这一掺杂工艺的芯片制造设备。

此次，电科装备连续突破光路、控制、软件等关键模块的核心技术，形成中束流、大束流、高能及第三代半导体等全系列离子注入机产品格局，实现了28纳米工艺制程全覆盖。

如今，电科装备的百台设备广泛应用于国内各大集成电路先进产线，累计流片2000万片。