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2023-07-05 11:07 来源:快科技 作者:快科技
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7月5日消息,台积电今年要大规模量产3nm工艺了,三星也是,两家还要在2025年左右量产2nm工艺,对EUV光刻工艺的需求更高,而ASML今年底也会出货新款EUV光刻机NXE:3800E,2nm工艺就靠它了。
ASML是唯一能量产EUV光刻机的公司,而且迭代了多次,主要是提升能效及产能,目前最新的型号是NXE:3600D,NXE:3800E计划是年底出货,进一步降低EUV光刻的成本。
NXE:3800E光刻机的曝光能力将达到30mJ/cm2,WPH每小时产能大约是195片晶圆,后续还会提升到220片晶圆/小时,产能比当前型号高出30%以上。
至于售价,NXE:3800E的价格还没有权威说法,但是此前EUV光刻机就卖到1.5亿美元以上,这两年还有通胀等因素,价格10亿起步是少不了的。
未来的高NA孔径EUV光刻机会更贵,价格轻松突破25到30亿元之间。
NXE:3800E光刻机今年底出货的话,考虑到安装、调试及生产的周期,未来台积电、三星会主要在2nm节点使用,而高NA孔径的下一代光刻机要解决的是1nm及之后的工艺。
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