ASML吓坏？俄罗斯放狠话加快自研光刻机 能产7nm芯片：合作伙伴敲定

5月2日消息，据俄罗斯媒体报道称，为了推进自研光刻机进度，其已经敲定了相关的合作伙伴。

据悉，俄罗斯方面将为两大白俄罗斯微电子领域项目提供约100亿卢布信贷支持，受资助企业包括集成电路成套工艺领域的Integral和精密光刻设备领域的Planar。

白俄罗斯方面还透露，已经签署了关于建立两国光掩模开发和生产联合中心的协议。”这将使我们能够开展联合开发工作并减少白俄罗斯和俄罗斯消费者对进口供应的依赖”。

资料显示，Planar公司（KBTEM-OMO）是东欧最大的半导体设备供应商，已有50余年的半导体设备研发与制造历史，其产品包括基于激光直写的图形发生器、掩模检测设备、掩模修补设备、接近/接触光刻机、投影光刻机与硅片检测设备等。

在这之前，俄罗斯科学院发豪语2028年自行研发的光刻机将问世，可生产出7nm芯片。据报道，国际制裁对俄罗斯断供后，造成俄国芯片短缺，加以美国、英国和欧盟也祭出多项制裁，几乎所有拥有先进晶圆制造商都停止与俄罗斯实体合作，ARM也无法将他们的技术授权给俄罗斯的芯片设计师。

俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构发豪语，宣称俄罗斯科学院旗下应用物理研究所将会跌破所有人眼镜，在2028年开发出可以生产7纳米芯片的光刻机，还可击败ASML同类产品。

俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示，全球光刻机领导者ASML 近20 年来一直致力于EUV 曝光机，目标是让世界顶尖半导体厂商保持极高的生产效率。

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